Puhdastila
Mikro- ja nanotekniikkaan perustuvien rakenteiden valmistus edellyttää normaalia huoneilmaa puhtaampaa ympäristöä, jossa ilmassa leijuvat pienet epäpuhtauspartikkelit poistetaan tehokkaiden HEPA-suodattimien ja ilmanvaihdon avulla. Herkät valmistusprosessit edellyttävät myös, että tilojen ilmankosteus ja lämpötila pidetään stabiileina. Tiloissa työskentelevät käyttävät erityistä vaatetusta, joka estää tilojen likaantumisen ihmisistä irtoavien epäpuhtauksien vaikutuksesta.
Oulun yliopiston Materiaalianalyysikeskuksen puhdastila on kooltaan 550 neliömetriä, joka on jaettu eri puhtausluokkiin niissä tehtävän työn mukaisesti. Tilat kattavat puhdastilojen ISO-standardin mukaiset luokat ISO5-ISO7. Puhdastiloissa on käytössä ultrapuhdas vesi, typpikaasu ja paineilma.
Puhdastilassa tehtävä työ on painottunut mikroelektroniikan materiaalien tutkimukseen sekä optisten komponenttien valmistukseen. Yliopiston tutkimusryhmien lisäksi useat yritykset hyödyntävät MAKE:n puhdastilaa toiminnassaan.
Valmistusprosessit ja laitteet
Materiaalinanalyysikeskuksen on käytössä monipuolinen valikoima mikro- ja nanorakenteiden valmistukseen tarkoitettuja laitteita. Valmistuslaitteet voidaan jakaa ohutkalvojen valmistukseen, fotolitografiaprosessiin, syövytyslaitteisiin, lasereihin sekä muihin valmistuslaitteisiin. Myös mikro- ja nanovalmistukseen soveltuva FIB-FESEM sijaitsee puhdastilassa.
Puhdastilaan on lisäksi asennettu Mikroelektroniikan tutkimusyksikön painettavan elektroniikan tutkimuksen laitteita sekä hiilinanoputkireaktori.