Röntgenlaitteet
Käytössä oleviin menetelmiin kuuluvat röntgendiffraktio (X-ray Diffraction, XRD), yksikideröntgendiffraktio (Single Crystal X-ray Diffraction, SCXRD), röntgenfluoresenssi (X-ray Fluorescence, XRF), röntgenfotoelektronispektroskopia (X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS) ja röntgenmikroskopia.
XRD on materiaalitutkimuksessa käytettävä perusmenetelmä. Sen avulla on mahdollista tutkia kiteisten materiaalien yhdisteisteitä ja niiden faasiosuuksia, kiderakennetta, jäännösjännityksiä, dislokaatiotiheyksiä ja tekstuuria. Tukittavat näytteet voivat olla kiinteitä tai jauheita.
SCXRD on perustutkimusmenetelmä kiinteiden materiaalien 3D-kiderakenteen tutkimukseen.
XRF on laajakirjoiseen alkuaineanalyysiin soveltuva tutkimusmenetelmä. XRF:n avulla voidaan mitata ja kvantisoida tarkasti erittäin pieniä alkuainepitoisuuksia jauheista, kiinteistä näytteistä ja nesteistä.
Röntgenfotoelektronispektroskopia (X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS/Electron Spectroscopy for Chemical Analysis, ESCA) on pintakemiallinen analyysimenetelmä, joka soveltuu moniin teknillis-tieteellisiin tutkimuksiin.
XPS-mittaus perustuu röntgensäteilyn aikaansaamaan fotoemissioon. XPS:n avulla voidaan mitata alkuaineet litiumista uraaniin ja analysoimalla mitattujen spektrien hienorakennetta saadaan tietoa atomien välisistä kemiallisista sidoksista, jolloin näytteiden kemiallisen koostumuksen tutkiminen on mahdollista.
Röntgenmikroskooppi soveltuu materiaalinäytteiden läpivalaisukuvaukseen sekä vaurioanalyysiin.